Überblick
LEXT OLS5100 3D-Laser-Scanning-MikroskopLaser-Mikroskop für die MaterialanalyseIntelligenter Workflow, schnellere UntersuchungenDas OLS5100 Laser-Mikroskop wurde für die Fehleranalyse und werkstofftechnische Forschung entwickelt und kombiniert hervorragende Messgenauigkeit und optische Leistung mit intelligenten Werkzeugen, die die Verwendung des Mikroskops vereinfachen. Schnelle und effiziente Messung der Form und Oberflächenrauheit im Submikrometerbereich ermöglichen einen vereinfachten Workflow mit zuverlässigen Daten. Video ansehen |
Einfache Laser-Scanning-MikroskopieDie Verwendung des Mikroskops ist für Bediener mit und ohne Erfahrung dank der intuitiven Software einfach.
Die Informationen, einschließlich der garantierten Genauigkeit, auf dieser Webseite basieren auf den von Evident festgelegten Bedingungen |
Vereinfachte Untersuchungen für die Werkstofftechnik und FehleranalyseDer Smart Experiment Manager vereinfacht die Untersuchungsabläufe von 3D-Betrachtungen und Fehleranalysen im Submikrometerbereich, indem einst zeitaufwändige Aufgaben automatisiert werden.
|
Vollständig anpassbar an Ihre SpezifikationenNutzen Sie alle erweiterten Funktionen des Laser-Scanning-Mikroskops OLS5100 für die Materialanalyse großer und schwerer Proben. |
Zuverlässiger Service und SupportVon der Kalibrierung bis zur Schulung bieten wir ein breites Portfolio an Serviceleistungen, um die optimale Geräteleistung aufrechtzuerhalten. Serviceverträge von Evident sind:
|
Vorteile
Vorteile von Lasermikroskopen | ||
1. 3D-Mikroskopie/-Messung im Submikrometerbereich Untersuchung von Stufen im Nanometerbereich und Messung von Höhenunterschieden im Submikrometerbereich. | ||
2. ISO25178-konforme Messung der Oberflächenrauheit Messung der Linien- und Flächenrauheiten | ||
3. Kontaktlos, zerstörungsfrei und schnell Keine Probenvorbereitung erforderlich – einfach die Probe auf dem Tisch platzieren und messen. |
Zuverlässige Daten auf KnopfdruckSmart Scan II Bediener mit und ohne Erfahrung können mit der Smart Scan II Funktion schnell und einfach Daten erfassen. Es muss lediglich eine Probe auf den Tisch gelegt und die Start-Schaltfläche ausgewählt werden. Den Rest erledigt das Mikroskop.
|
Garantierte Messleistung – zugeschnitten auf Ihre Betriebsumgebung | |
Garantierte Genauigkeit und Wiederholbarkeit | |
Oberflächenmesstechnik über das Sehfeld hinaus * Nur für OLS5100-SAF/EAF |
Bedienerfreundliches Mikroskopieren mit hoher Auflösung und starker Vergrößerung | ||
Kontinuierlicher Autofokus Mit dem kontinuierlichen Autofokus des Mikroskops bleiben die Bilder beim Bewegen des Tisches oder beim Ändern von Objektiven scharf, wodurch die Notwendigkeit manueller Anpassungen minimiert wird. Die permanente Schärfenachführung ermöglicht eine schnelle und einfache Betrachtung. | ||
Dualer DIC für Echtzeit-Mikroskopie im Nanometerbereich Erkennen Sie winzige Schäden in der Probe mittels Echtzeit-Betrachtung im Nanometerbereich. Mit dem Differentialinterferenzkontrast-Verfahren (DIC) können Oberflächenmerkmale im Nanometerbereich dargestellt werden, die normalerweise außerhalb des Auflösungsvermögens eines Lasermikroskops liegen. Im DIC-Lasermodus kann das OLS5100 Mikroskop Live-Bilder erfassen, die mit denen eines Elektronenmikroskops vergleichbar sind, selbst mit vergleichsweise leistungsarmen 5X oder 10X Objektiven. | Oberflächenprofil | Parkposition einer Festplatte |
Umfassende AnalyseEs stehen zahlreiche Analysefunktionen zur Verfügung. Das Folgende ist nur ein Beispiel. Bitte laden Sie die Broschüre herunter oder kontaktieren Sie Ihren Evident Vertreter, um Einzelheiten zu erfahren. | |
ISO25178-konforme Messung der Oberflächenrauheit Das OLS5100 Mikroskop scannt die Probenoberfläche mithilfe eines Laserstrahls mit 0,4 μm Durchmesser. Dies erlaubt die einfache Messung der Oberflächenrauheit von Proben, die mit Tastschnittgeräten nicht vermessen werden können. Die Möglichkeit, gleichzeitig ein Farbbild, ein Laserbild und 3D-Formdaten einer Oberfläche zu erfassen, die mit einem Tastschnittgerät nicht vermessen werden kann, erweitert die Anwendungsmöglichkeiten der Analyse. | |
Messung des Höhenunterschieds zwischen dem höchsten und dem niedrigsten Punkt in einem Oberflächenprofil | Profilmessung/ Messhilfe Mit der Funktion Profilmessung wird das Oberflächenprofil angezeigt, indem in einem Bild an der zu messenden Position eine beliebige Messlinie gezeichnet wird. Außerdem können Stufen zwischen zwei beliebigen Punkten, Breite, Querschnittsbereich und Radius gemessen werden. Anders als bei kontaktbasierten Messgeräten ist die Einstellung der zu messenden Punkte einfach. Die Messlinien und -punkte können auf dem Bild überprüft werden, sodass selbst sehr kleine Stellen genau gemessen werden können. Mit der Messhilfe kann der zu messende Punkt anhand des höchsten, des tiefsten, des mittleren Punktes und/oder von Mittelwertpunkten korrekt angegeben werden. Wenn eine Stelle in den erfassten Daten festgelegt wird, können Merkmalspunkte automatisch entsprechend den vorgegebenen Bedingungen extrahiert werden. |
Software
Vereinfachte Untersuchungen für die Werkstofftechnik und Fehleranalyse | |
Die Verwaltung der Untersuchungsbedingungen bei der Prüfung neuer Materialien ist kompliziert. Daher vereinfacht der Smart Experiment Manager des OLS5100 Laser-Mikroskops den Prozess mit automatischen Hauptschritten, wie die Erstellung des Untersuchungsplans. |
Automatische Routinearbeitsabläufe | |
Makrofunktion Das gesamte Prüfverfahren kann mithilfe des Makroerstellungswerkzeugs automatisiert werden. Der Anwender erstellt und bearbeitet die Verfahren und führt nur noch das registrierte Makro aus, um zuverlässige Messergebnisse zu erhalten. In Kombination mit dem Smart Experiment Manager können Pass/Fail-Bewertungen durch einen einzigen Klick erfolgen. |
Optimierte Datenverwaltung | |
Schnelle Datensortierung | |
Automatische Dateneingabe |
Einfache Datenverwaltung von Untersuchungsbedingen | |
Automatische Generierung von Dateinamen Jede Zelle im Prüfplan kann angeklickt werden. Die Software generiert automatisch einen Dateinamen, der die Bewertungsbedingungen für eine einfache Rückverfolgung enthält. Jede Datei enthält die verknüpften Bilder und Daten. |
Schnelle Messergebnisse | |
Toleranzbeurteilung | |
Heat Map |
Analyse mehrerer Daten | |
Vergleichende Datenanalyse |
Spezifikationen
Haupteinheit
Modell | OLS5100-SAF | OLS5100-SMF | OLS5100-LAF | OLS5100-EAF | ||
---|---|---|---|---|---|---|
Gesamtvergrößerung | 54x–17,280x | |||||
Sehfeld | 16–5,120 µm | |||||
Messprinzip | Optisches System |
Konfokales Laser-Scanning-Mikroskop mit Auflichtbeleuchtung
Konfokales Laser-Scanning-DIC-Mikroskop mit Auflichtbeleuchtung Farbe Farb-DIC | ||||
Messprinzip | Detektor |
Laser: Photomultiplier (2 Kanäle)
Farbe: CMOS-Farbkamera | ||||
Höhenmessung | Anzeigeauflösung | 0,5 nm | ||||
Höhenmessung | Dynamikbereich | 16 Bit | ||||
Höhenmessung | Wiederholbarkeit σn-1*1 *2 *5 | 5X: 0,45 μm, 10X: 0,1 μm, 20X: 0,03 μm, 50X : 0,012 μm, 100X : 0,012 μm | ||||
Höhenmessung | Genauigkeit *1 *3 *5 | 0,15+L/100 μm (L: Messlänge [μm]) | ||||
Höhenmessung | Genauigkeit des zusammengefügten Bildes *1 *3 *5 | 10X : 5,0 + L/100 μm, 20X oder höher : 1,0 + L/100 μm (L: Stitching-Länge [μm]) | ||||
Höhenmessung | Messrauschen (Sq noise) *1 *4 *5 | 1 nm (Typ) | ||||
Breitenmessung | Anzeigeauflösung | 1 nm | ||||
Breitenmessung | Wiederholbarkeit 3σn-1 *1 *2 *5 | 5X: 0,4 μm, 10X: 0,2 μm, 20X: 0,05 μm, 50X: 0,04 μm, 100X: 0,02 μm | ||||
Breitenmessung | Genauigkeit *1 *3 *5 | Messwert +/- 1,5 % | ||||
Breitenmessung | Genauigkeit des zusammengefügten Bildes *1 *3 *5 | 10X : 24 + 0,5L μm, 20X : 15 + 0,5L μm, 50X : 9 + 0,5L μm, 100X : 7 + 0,5L μm (L: Stitching-Länge [mm]) | ||||
Maximale Anzahl Messpunkte bei einer Einzelmessung | 4096 Pixel × 4096 Pixel | |||||
Maximale Anzahl Messpunkte | 36 Megapixel | |||||
XY-Tischkonfiguration | Längenmessmodul | • | Numerische Apertur (NA) | Numerische Apertur (NA) | • | |
XY-Tischkonfiguration | Arbeitsbereich | 100 × 100 mm (3,9 × 3,9 Zoll) Motorgesteuert | 100 × 100 mm (3,9 × 3,9 Zoll) Manuell | 300 × 300 mm (11,8 × 11,8 Zoll) Motorgesteuert | 100 × 100 mm (3,9 × 3,9 Zoll) Motorgesteuert | |
Maximale Probenhöhe | 100 mm (3,9 Zoll) | 40 mm (1,6 Zoll) | 37 mm (1,5 Zoll) | 210 mm (8,3 Zoll) | ||
Laser-Lichtquelle | Wellenlänge | 405 nm | ||||
Laser-Lichtquelle | Maximale Leistung | 0,95 mW | ||||
Laser-Lichtquelle | Laserklasse | Klasse 2 (IEC60825-1:2007, IEC60825-1:2014)*6 | ||||
Farblichtquelle | Weißlicht-LED | |||||
Elektrische Leistung | 240 W | 240 W | 278 W | 240 W | ||
Gewicht des | Mikroskopgehäuses | Ca. 31 kg | Ca. 32 kg | Ca. 50 kg | Ca. 43 kg | |
Gewicht der | Steuereinheit | Ca. 12 kg |
*1 Garantiert bei Verwendung bei konstanter Temperatur und in einer Umgebung mit konstanter Luftfeuchtigkeit (Temperatur: 20 ˚C ± 1 ˚C, Luftfeuchtigkeit: 50 % ± 10 %), festgelegt in ISO554(1976), JIS Z-8703(1983).
*2 Für 20X oder höher bei Messung mit Objektiven der Serie MPLAPON LEXT.
*3 Bei Messung mit speziellem LEXT Objektiv.
*4 Typische Werte bei Messung mit dem MPLAPON100XLEXT Objektiv, können vom garantierten Wert abweichen.
*5 Garantiert gemäß dem Evident Zertifizierungssystem.
*6 OLS5100 ist ein Laserprodukt der Klasse 2. Schauen Sie nicht in den Laserstrahl.
** Die Betriebssystem-Lizenz für Windows 10 wurde für den von Evident bereitgestellten Mikroskop-Controller zertifiziert. Daher gelten die Lizenzbedingungen von Microsoft, und Sie erklären sich mit den Bedingungen einverstanden. Im Folgenden finden Sie die Lizenzbedingungen von Microsoft.
https://www.microsoft.com/en-us/Useterms/Retail/Windows/10/UseTerms_Retail_Windows_10_english.htm
Objektive
Serie | Modell | Numerische Apertur (NA) | Arbeitsabstand (WD) (mm) |
---|---|---|---|
UIS2-Objektiv | MPLFLN2.5X | 0,08 | 10,7 |
MPLFLN5X | 0,15 | 20 | |
Spezielles LEXT Objektiv (10X) | MPLFLN10XLEXT | 0,3 | 10,4 |
Spezielles LEXT Objektiv (Hochleistungstyp) | MPLAPON20XLEXT | 0,6 | 1 |
MPLAPON50XLEXT | 0,95 | 0,35 | |
MPLAPON100XLEXT | 0,95 | 0,35 | |
Spezielles LEXT Objektiv (mit langem Arbeitsabstand) | LMPLFLN20XLEXT | 0,45 | 6,5 |
LMPLFLN50XLEXT | 0,6 | 5,2 | |
LMPLFLN100XLEXT | 0,8 | 3,4 | |
Objektiv mit sehr langem Arbeitsabstand | SLMPLN20X | 0,25 | 25 |
SLMPLN50X | 0,35 | 18 | |
SLMPLN100X | 0,6 | 7,6 | |
LCD-Objektiv mit langem Arbeitsabstand | LCPLFLN20XLCD | 0,45 | 8.3-7.4 |
LCPLFLN50XLCD | 0,7 | 3.0-2.2 | |
LCPLFLN100XLCD | 0,85 | 1.2-0.9 |
Anwendungssoftware
Standard-Software | OLS51-BSW | |||
---|---|---|---|---|
Standard-Software | Anwendung Datenerfassung | Anwendung Analyse (einfache Analyse) | ||
Anwendungspaket motorgesteuerter Tisch *1 | OLS50-S-MSP | |||
Anwendung erweiterte Analyse *2 | OLS50-S-AA | |||
Anwendung Messung der Foliendicke | OLS50-S-FT | |||
Anwendung automatische Kantenmessung | OLS50-S-ED | |||
Anwendung Partikelanalyse | OLS50-S-PA | |||
Anwendung allgemeiner Untersuchungsassistent | OLS51-S-ETA | |||
Anwendung Analyse von Kugeln/Zylindern/Oberflächenwinkeln | OLS50-S-SA |
*1 Einschließlich der Funktionen Datenerfassung mit Auto-Stitching und Datenerfassung in mehreren Bereichen.
*2 Einschließlich Profilanalyse, Differenzanalyse, Analyse der Stufenhöhe, Oberflächenanalyse, Flächen- und Volumenanalyse, Analyse der Linienrauheit, Analyse der Flächenrauheit und Histogrammanalyse.
Lasermikroskope von Evident
OLS5100-SAF Konfigurationsbeispiel
OLS5100-SAF
| ||
OLS5100-EAF
| ||
OLS5100-SMF
| ||
OLS5100-LAF
|