Wir haben eine neue Fertigungstechnologie verwendet, um Objektive zu entwickeln, bei denen die numerische Apertur, der Arbeitsabstand und die Aberrationskorrektur optimiert wurden. Die hohe numerische Apertur (NA) und der Arbeitsabstand von 3 mm verbessern den Probentransport und ermöglichen einen höheren Durchsatz bei der automatisierten Prüfung von Halbleitern. Es sind 20X- und 50X-Objektive verfügbar.
MXPLFLN50XBD
Das MXPLFLN50XBD ist unser erstes 50X-Objektiv mit einer numerischen Apertur von 0,8 und einem Arbeitsabstand von 3 mm. Im Vergleich zu einem LMPLFLN100X-Objektiv ist der Beobachtungsbereich dank der 0,8 NA bei 50-facher Vergrößerung viermal größer.
MXPLFLN20XBD
Das MXPLFLN20XBD ist unser erstes 20X-Objektiv mit einer numerischen Apertur von 0,55 und einem Arbeitsabstand von 3 mm. Die hohe NA und hohe Planität erzeugen homogene Bilder, die sich zum Stitching eignen.
Vergrößerung [X] | 20 |
---|---|
Numerische Apertur (NA) | 0,55 |
Arbeitsabstand (AA) [mm] | 3 |
Objektiv Sehfeldzahl | 26,5 |
Immersionsmedium | Luft/trocken |
Federbelastet | Keine Angabe |
Korrekturring | Keine Angabe |
Korrekturbereich des Korrekturrings | Keine Angabe |
Irisblende | Keine Angabe |
Korrektur der chromatischen Aberration | Semiapochromatisch (FL) |
Parfokalabstand (mm) | 45 |
Position der hinteren Brennebene (BPF) | -8.0 |
Schraubgewindeart | W26 × 0,706 |
Hellfeld (Auflicht) | Gut |
Hellfeld (Durchlicht) | Gut |
Dunkelfeld (Auflicht) | Gut |
Dunkelfeld (Durchlicht) | Keine Angabe |
DIC (Auflicht) | Gut |
DIC (Durchlicht) | Keine Angabe |
Phasenkontrast | Keine Angabe |
Reliefkontrast | Keine Angabe |
Polarisiertes Licht | Beschränkung |
Fluoreszenz (B-, G-Anregung) | Gut |
UV-Fluoreszenz (bei 365 nm) | Keine Angabe |
Multiphotonen-Mikroskopie | Keine Angabe |
TIRF (Total internal reflection fluorescence) | Keine Angabe |
IR | Keine Angabe |
WLI | Keine Angabe |
Autofokus | Gut |
Vergrößerung [X] | 50 |
---|---|
Numerische Apertur (NA) | 0,8 |
Arbeitsabstand (AA) [mm] | 3 |
Objektiv Sehfeldzahl | 26,5 |
Immersionsmedium | Luft/trocken |
Federbelastet | Keine Angabe |
Korrekturring | Keine Angabe |
Korrekturbereich des Korrekturrings | Keine Angabe |
Irisblende | Keine Angabe |
Korrektur der chromatischen Aberration | Semiapochromatisch (FL) |
Parfokalabstand (mm) | 45 |
Position der hinteren Brennebene (BPF) | -8.0 |
Schraubgewindeart | W26 × 0,706 |
Hellfeld (Auflicht) | Gut |
Hellfeld (Durchlicht) | Gut |
Dunkelfeld (Auflicht) | Gut |
Dunkelfeld (Durchlicht) | Keine Angabe |
DIC (Auflicht) | Gut |
DIC (Durchlicht) | Keine Angabe |
Phasenkontrast | Keine Angabe |
Reliefkontrast | Keine Angabe |
Polarisiertes Licht | Beschränkung |
Fluoreszenz (B-, G-Anregung) | Gut |
UV-Fluoreszenz (bei 365 nm) | Gut |
Multiphotonen-Mikroskopie | Keine Angabe |
TIRF (Total internal reflection fluorescence) | Keine Angabe |
IR | Keine Angabe |
WLI | Keine Angabe |
Autofokus | Gut |
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