Wir haben eine neue Fertigungstechnologie verwendet, um Objektive zu entwickeln, bei denen die numerische Apertur, der Arbeitsabstand und die Aberrationskorrektur optimiert wurden. Die hohe numerische Apertur (NA) und der Arbeitsabstand von 3 mm verbessern den Probentransport und ermöglichen einen höheren Durchsatz bei der automatisierten Prüfung von Halbleitern. Es sind 20X- und 50X-Objektive verfügbar.
 

MX Plan Semi-Apochromate mit hoher numerischer Apertur und großem Arbeitsabstand – MXPLFLN-BD

• Entwickelt für Hellfeld-, Dunkelfeld-, differenzielle Interferenzkontrast- (DIC), Fluoreszenz- und einfache Beobachtungsmethoden mit polarisiertem Licht
• Kombiniert eine hohe NA, einen großen Arbeitsabstand und eine Planität
• In 20-facher und 50-facher Vergrößerung mit einem Arbeitsabstand von 3 mm verfügbar  

MXPLFLN50XBD
Das MXPLFLN50XBD ist unser erstes 50X-Objektiv mit einer numerischen Apertur von 0,8 und einem Arbeitsabstand von 3 mm. Im Vergleich zu einem LMPLFLN100X-Objektiv ist der Beobachtungsbereich dank der 0,8 NA bei 50-facher Vergrößerung viermal größer.

MXPLFLN20XBD
Das MXPLFLN20XBD ist unser erstes 20X-Objektiv mit einer numerischen Apertur von 0,55 und einem Arbeitsabstand von 3 mm. Die hohe NA und hohe Planität erzeugen homogene Bilder, die sich zum Stitching eignen.