Se ha usado una innovadora tecnología de fabricación para crear lentes de objetivo dotados simultáneamente de una apertura numérica mejorada, distancia de trabajo y corrección de la aberración. La alta apertura numérica (A. N.) y la distancia de trabajo de 3 mm mejoran el desplazamiento de las muestras, lo que aumenta el rendimiento en la inspección automatizada de semiconductores. Hay lentes 20X y 50X.

Objetivos de plan semiapocromáticos MX con alta apertura numérica y larga distancia de trabajo: MXPLFLN-BD

• Diseñados para métodos de observación de campo claro, campo oscuro, contraste de interferencia diferencial (DIC), fluorescencia y luz polarizada simple
• Combinan una alta apertura numérica, una larga distancia de trabajo y planitud de la imagen
• Disponibles en magnificaciones de 20X y 50X con una distancia de trabajo de 3 mm

MXPLFLN50XBD
El objetivo MXPLFLN50XBD es nuestro primer objetivo de 50X con apertura numérica de 0.8 y distancia de trabajo de 3 mm. En comparación con un objetivo LMPLFLN100X, el rango de observación es cuatro veces superior gracias a la apertura numérica de 0.8 en una magnificación de 50X.

MXPLFLN20XBD
El objetivo MXPLFLN20XBD es nuestro primer objetivo de 20X con una apertura numérica de 0.55 y una distancia de trabajo de 3 mm. Su amplitud numérica elevada y la gran planitud de las imágenes generan imágenes homogéneas que son ideales para la aplicación mosaico.