Nous avons utilisé une nouvelle technologie de fabrication pour créer des objectifs offrant simultanément une ouverture numérique, une distance de travail et une correction des aberrations améliorées. Leur ouverture numérique élevée (O. N.) et leur distance de travail de 3 mm améliorent le transport des échantillons, ce qui permet un meilleur rendement lors de l’inspection automatisée des semi-conducteurs. Objectifs 20X et 50X disponibles.
Objectifs semi-apochromatiques à plan MX avec ouverture numérique élevée et longue distance de travail – MXPLFLN-BD
- Conçus pour les méthodes d’observation en fond clair, en champ sombre, en contraste interférentiel différentiel (CID), en fluorescence et en lumière polarisée simple
- Associent une grande ouverture numérique, une grande distance de travail et une planéité d’image
- Disponibles en grossissements 20X et 50X avec une distance de travail de 3 mm
MXPLFLN50XBD
Le MXPLFLN50XBD est notre premier objectif 50X proposant une ouverture numérique de 0,8 et une distance de travail de 3 mm. Par rapport à un objectif LMPLFLN100X, la plage d’observation est quatre fois plus grande grâce à l’ouverture numérique de 0,8 à un grossissement de 50X.
MXPLFLN20XBD
Le MXPLFLN20XBD est notre premier objectif 20X proposant une ouverture numérique de 0,55 et une distance de travail de 3 mm. Sa grande ouverture numérique et sa grande planéité d’image produisent des images homogènes idéales pour l’assemblage.