Panoramica

I microscopi BX61 Olympus sono stati sviluppati con ottiche e tecnologie di imaging all'avanguardia per diverse applicazioni nelle scienze dei materiali.

Olympus è impegnato nel supportare le vostre applicazioni attraverso soluzioni di sistemi di microscopia

Serie BX61TRF/BX-RLAA/U-AFA2M/DP

Il BX61 è progettato specificatamente per funzionare con il sistema autofocus basato sul laser Olympus. Attraverso una messa a fuoco e un tracciamento attivo precisi, gli utenti possono accelerare le ispezioni di routine. Le configurazioni addizionali come il l'intensità di illuminazione, la scelta dell'obiettivo e la configurazione dell'apertura possono essere definiti mediante dei pulsanti posizionati sullo stativo del microscopio, un tastierino o un computer. Per assicurare una completa flessibilità della configurazione del sistema sono disponibili diversi moduli motorizzati, inclusi revolver e illuminatori.

Eccellente nitidezza dell'immagine e straordinaria risoluzione

Ampia scelta di obiettivi per personalizzare il proprio sistema

Olympus offre un'ampia scelta di obiettivi per l'applicazione di qualsiasi tecnica di osservazione. È possibile scegliere l'obiettivo ottimale per un'applicazione attingendo dalla nostra serie di oltre 150 obiettivi. La fedeltà cromatica è importante per realizzare un'ispezione precisa e efficiente. La serie di obiettivi UIS2 assicurano una riproduzione cromatica naturale combinando un vetro a alta trasmittanza rigorosamente selezionato e una tecnologia di trattamento avanzata.

Immagini di esempi di osservazioni

Testina magnetica (campo chiaro)

DVD (campo chiaro)

Wafer (fluorescenza)

Filtro a colori (trasmesso)

Diverse linee disponibili per effettuare una scelta in base allo scopo
MPLAPON	Serie di obiettivi Plan Apochromat
MPLFLN	Serie di obiettivi Semi Apochromat per campo chiaro
MPLFLN-BD	Serie di obiettivi Semi Apochromat per campo chiaro e campo scuro
MPLFLN-BDP	Serie di obiettivi Semi Apochromat per campo chiaro, campo scuro e contrasto di fase
LMPLFLN	Serie di obiettivi Semi Apochromat a lunga distanza di lavoro per campo chiaro
LMPLFLN-BD	Serie di obiettivi Semi Apochromat a lunga distanza di lavoro per campo chiaro e campo scuro
MPLN	Serie di obiettivi Plan Apochromat per campo chiaro
MPLN-BD	Serie di obiettivi Plan Apochromat per campo chiaro e campo scuro
SLMPLN	Serie di obiettivi Semi Apochromat a distanza di lavoro molto ampia
LCPLFLN-LCD	Serie di obiettivi Semi Apochromat a lunga distanza di lavoro per LCD
LMPLN-IR/LCPLN-IR	Serie di obiettivi Semi Apochromat a lunga distanza di lavoro per luce nel vicino infrarosso

> Fare clic qui per dettagli informazioni sugli obiettivi UIS2

Soluzioni software

Progettato per operare facilmente con fotocamere digitali e software di analisi di immagini

La nostra linea completa di fotocamere digitali assicurano una visualizzazione a alta risoluzione e un veloce trasferimento di immagini mentre il nostro avanzato Software di analisi delle immagini Olympus supporta gli utenti e fornisce tutti gli strumenti per gestire le attuali applicazioni complesse metallurgiche. È possibile scegliere tra diversi moduli applicativi (oltre una decina di applicazioni di ruotine), come Misure estese, Metallografia standard e Metallografia avanzata, per integrare automaticamente i dati e creare i report in conformità alle più comuni specifiche delle norme ASTM e ISO, attraverso solo pochi click del mouse.

> Cliccare qui per la linea Olympus di fotocamere digitali

> Cliccare qui per la linea Olympus di opzioni software

Specifiche tecniche

Sistema ottico	Sistema ottico UIS2 (infinito corretto)
Stativo > Illuminazione	Riflessa/Trasmessa
Stativo > Illuminazione	Fonte di illuminazione esterna da 12 V-100 W Interruttore di preselezione della luce Indicatore di tensione LED Interruttore commutazione luce riflessa/trasmessa
Stativo > Messa a fuoco	Messa a fuoco motorizzata Corsa: 25 mm Graduazione minima di 0,01 μm
Stativo > Altezza massima del campione	25 mm (senza distanziale)
Tubi di osservazione > Grandangolare (Indice di campo 22)	Invertito: binoculare, trioculare e binoculare inclinabile Dritto: Trioculare e binoculare inclinabile
Tubi di osservazione > Supergrandangolare (Indice di campo 26,5)	Rovesciati: Trioculare Dritto: Trioculare e trioculare inclinabile
Illuminazione a luce riflessa > BF ecc.	BX-RLAA Commutazione BF/DF motorizzata AS motorizzato
Illuminazione a luce riflessa > Fluorescenza riflessa	BX-RFAA Torretta motorizzata a 6 posizioni Otturatore motorizzato integrato Con FS, AS
Luce trasmessa	Luce alogena da 100 W Condensatori di Abbe e ad ampia distanza di lavoro Filtri a luce trasmessa integrati (LBD, ND25 e ND6)
Revolver > Per BF	Sestuplo motorizzato
Revolver > Per BF/DF	Motorizzato quintuplo, motorizzato sestuplo e quintuplo con centratmento
Tavolini	Tavolino coassiale con sistema di regolazione a sinistra (destra): 76 (X) × 52 (Y) mm, con regolazione della coppia Tavolino coassiale di grandi dimensioni con sistema di regolazione a sinistra (destra): 100 (X) × 105 (Y) mm, con meccanismo di blocco dell'asse Y
Dimensioni	circa 318 (Largh.) x 602 (Lungh.) x 541 (Altez.) mm
Peso	circa 25,5 kg (Stativo: 11,4 kg)

Galleria fotografica delle applicazioni

BX61 acquisisce l'immagine che si vuole

Campo scuro

Superficie di montaggio della scheda

Il campo scuro permette di osservare la luce diffratta o diffusa dal campione. La luce dalla lampada passa attraverso le ottiche anulari di illuminazione nell'illuminatore ed è focalizzata sul campione. La luce proveniente dal campione viene riflessa solamente da imperfezioni sull'asse z. L'utente può identificare l'esistenza di graffi o difetti di dimensioni molto ridotte, fino a 8 nm, quindi inferiore alla capacità di risoluzione limite di un microscopio ottico. Il campo scuro è ideale per rilevare graffi o difetti di ridotte dimensioni su un preparato e per analizzare campioni a superficie riflettente, inclusi i wafer.

Luce polarizzata

Amianto

La tecnica di osservazione microscopica utilizza la luce polarizzata generata da una serie di filtri (analizzatore e polarizzatore). Le caratteristiche del campione influenzano direttamente l'intensità della luce riflessa dal sistema. È adatta per strutture metallurgiche (es. modello di crescita della grafite su ghisa nodulare), minerali, LCD e materiali semiconduttori.

Contrasto interferenziale (DIC)

Testina magnetica

Il DIC rappresenta una tecnica di osservazione nella quale la differenza di altezza di un campione non rilevabile con campo chiaro diventa un'immagine tridimensionale o come se fosse in rilievo con un migliore contrasto. Questa tecnica basata sulla luce polarizzata può essere adattata ai propri bisogni mediante tre prismi progettati specificatamente. Risulta ideale per l'analisi dei campioni con differenze in altezza molto ridotte, come le strutture metallurgiche, i minerali, le testine magnetiche, le superfici dei dischi rigidi e le superfici dei wafer soggetti a planarizzazione.

Fluorescenza

Particella su wafer semiconduttore

Questa tecnica viene usata per campioni soggetti a fluorescenza (emissione di una luce di diversa lunghezza d'onda) quando sono illuminati con un modulo filtro progettato specificatamente che può essere scelto per una specifica applicazione. È adatta per l'ispezione di contaminanti su wafer semiconduttori e residui di fotoresist oltre al rilevamento di cricche attraverso l'uso di colorante fluorescente. Un opzionale sistema a lente collettore con portalampada apocromatico può essere aggiunto per compensare le aberrazioni cromatiche dalla luce visibile alla luce nel vicino infrarosso.

Osservazione a luce trasmessa

Filtro a colori LCD

Per i campioni trasparenti come gli LCD, le plastiche e i vetri, l'osservazione a luce trasmessa è disponibile usando diversi condensatori a luce trasmessa. È possibile analizzare i campioni in campo chiaro, campo scuro, DIC e immagini polarizzate in luce trasmessa in un unico e pratico sistema.

BX61