Evident LogoOlympus Logo

Rychlá analýza vad

Analýza polovodičových waferů používaných ve vysokofrekvenčních zařízeních

Sloučeninové polovodiče mohou zpracovávat informace vysokou rychlostí a pod vysokým napětím, takže jsou ideální pro aplikace 5G. Jedná o klíčové součásti elektronických zařízení, a proto je velice důležité kontrolovat, zda nejsou poškozeny.

Analýza polovodičových waferů používaných ve vysokofrekvenčních zařízeních

Výzvy při měření polovodičových waferů

Vady na waferech se obvykle kontrolují pomocí metalurgického mikroskopu. Častým problémem je ztráta vady ze zorného pole při přechodu na objektiv s větším zvětšením, který je zapotřebí pro podrobnější pohled.

Flexibilní zobrazování pro rychlé měření waferů

Digitální mikroskop DSX1000 vám umožňuje přepínat pozorování – například diferenciální kontrast rušení – pouhým stisknutím tlačítka. Optický zoom mikroskopu navíc umožňuje bezproblémové zobrazení od makroskopického až po mikroskopický pohled, díky čemuž neztratíte ze zřetele žádné vady.

Pozorování defektu waferu pomocí technologie DIC

Pozorování defektu waferu pomocí technologie DIC

Pozorování defektu waferu pomocí technologie DIC:
Metoda pozorování vhodná pro vizualizaci nepravidelností, cizích látek a škrábanců na úrovni nanometrů.

Digitální mikroskop DSX1000

Digitální mikroskop DSX1000

Pozorování reziduí rezistentního materiálu v polovodičových materiálech

V procesu vytváření elektrických obvodů leptáním hrají důležitou roli fotorezistentní
materiály.Litografický proces, kterým se elektrické obvody vytváří, sestává z aplikování, maskování, exponování a následného odstranění rezistentního materiálu. Reziduum rezistentního materiálu, které zůstane po odstranění materiálu, může být problémem.

Pozorování reziduí rezistentního materiálu v polovodičových materiálech

Výzvy v oblasti kontroly prováděné pomocí optického mikroskopu

Avšak dokonce i při použití optického mikroskopu může dojít k přehlédnutí rezidua rezistentního materiálu. Pro toto použití je důležité vybrat mikroskop vybavený vhodnými funkcemi.

Snadná detekce reziduí rezistentního materiálu

Vzpřímený metalurgický mikroskop BX53M  podporuje fluorescenční pozorování a nabízí snadné řešení pro detekci reziduí rezistentního organického materiálu na základě jejich charakteristik vyzařování světla. Na základě rozdílu emisních charakteristik můžete rozlišit rezidua rezistentního materiálu od jiné kontaminace.


Pozorování MIX (fluorescenční pozorování a pozorování v tmavém poli):

Snadná detekce reziduí rezistentního materiálu

Rezistentní materiál ve schématu integrovaného elektrického obvodu (IC)

Snadná detekce reziduí rezistentního materiálu

Reziduum fotorezistentního materiálu na vzorku waferu

Vzpřímený metalurgický mikroskop BX53M

BX53M
Vzpřímený metalurgický mikroskop

Pozorování stavu zformování optických komunikačních vlnovodů

Výrobci musí validovat stav zformování optických vlnovodů tvořících komponenty používané pro optickou komunikaci. Protože vlastní optický vlnovod je obklopen sklem, není možné provádět pozorování v episkopickém osvětlení (odraženém světle). Pro tuto oblast použití je zcela zásadní procházející osvětlení.

Pozorování stavu zformování optických komunikačních vlnovodů

Výzvy kontroly prováděné pomocí digitálního nebo měřicího mikroskopu

Je sice možné provádět pozorování optických vlnovodů s použitím mikroskopu, který měří prošlé světlo, nebo klasického digitálního mikroskopu, pozorovaný obraz je však v takovém případě rozmazaný nebo nezřetelný.

Zřetelné pozorování stavu zformování

Vysoká optická výkonnost a funkce pozorování s diferenciálním interferenčním kontrastem vzpřímeného metalurgického mikroskopu BX53M ve spojení s digitální kamerou DP74 určenou pro mikroskop umožňují zřetelné pozorování stavu zformování optického vlnovodu a pořizování snímků s vysokým rozlišením.

Zřetelné pozorování stavu zformování

Vzpřímený metalurgický mikroskop BX53M

BX53M
Vzpřímený metalurgický mikroskop

Digitální kamera DP74 určená pro mikroskop

DP74
Digitální kamera pro mikroskop

Potřebujete pomoc?

Not available in your country.
Not available in your country.
Sorry, this page is not available in your country