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Surface Roughness Measurement of Flexible Print Substrate using the Olympus OLS5000 Laser Confocal Microscope


Background

As electronics become smaller and more sophisticated, the demand for miniaturized flexible printed boards continues to grow. In order to make a flexible printed board, one or more copper foil layers are attached to a dielectric resin substrate. The copper foil is then etched to create the desired wire patterns. Before being applied to the substrate, the copper surface is roughened to promote adhesion. If the copper surface does not have sufficient roughness, it will not hold to the resin strongly enough to survive the rigors of the manufacturing process. This leads to defects and the failure of electronic devices. Consequently, the roughness of copper foil must be carefully measured.

The Olympus solutions

The Olympus LEXT 3D laser measurement microscope is capable of measuring surface roughness with plane and unevenness resolutions of 0.12 μm and 5 nm, respectively. The microscope has an ultra-high pixel density so that even subtle surface unevenness is accurately measured. Since the LEXT uses non-contact roughness measurement, the soft copper film will not be damaged. 

Features of the product

The Olympus LEXT gives you the ability to make 3D observations with ultra-high-resolution and a high pixel density. The microscope has high inclination sensitivity enabling it to make accurate measurements of complex geometric structures with steep sides. The non-contact roughness measurement feature ensures that sensitive copper surfaces are measured without damage.

Image

A high-resolution image and 3D model of a copper surface

Figure 1: A high-resolution image and 3D model of a copper surface

Olympus IMS
Produits utilisés pour cette application

Le microscope confocal à balayage laser LEXT OLS5000 permet d'effectuer des observations en 3D et des mesures sans contact et non destructives. En appuyant sur le bouton « START », les utilisateurs vont visualiser et mesurer les détails de l’ordre du micromètre au nanomètre.Sa facilité d’utilisation, et ses caractéristiques avancées lui assurent une vitesse d’acquisition quatre fois supérieure à celle du modèle antérieur. Pour l’analyse de plus grands échantillons, les objectifs à distance frontale importante et le statif d’extension permettent de traiter des échantillons pouvant aller jusqu'à 210 mm.
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