光学测量装置

KIF-PU-F

平面透过波面测定干涉仪 KIF-PU-F

该干涉仪适用于分析平面光学元件,尤其是在光学拾波器生产线上分析棱镜、平面镜等的透射波面和反射波面。

  1. 可测定被测物体的反射角规格
    用来折射的反射平面的角度可以变更,所以可以根据被测物体的反射角规格进行测定。此外,可以在同一反射平面内测定分光器的透过波面和反射波面。

  2. 可测定405 nm带·650 nm带镜片
    标准装载了405 nm和658 nm两种波长的光源,可通过简单的操作切换测定波长,可对任一方的光学元件进行评价。

  3. 可进行直线/圆偏光切换
    测定在读取头光学元件中使用的具有偏光依存性的被检物时,需要进行直线/圆偏光切换。最适合进行塑料及晶体等具有复折射特性的元件的透过波面测定。

  4. 小型·高刚性
    小型且高刚性的机身,充分考虑到生产现场的使用环境,所以不占空间即可进行快速质量检查。

  5. 可进行合格判断
    在专用的软件中,通过可任意设置的规格值和合格判断设置功能,能够在生产线中轻松进行合格判断。

平面透过波面测定干涉仪 KIF-PU-F:规格
测定波长 405 nm、658 nm(2级激光产品)
干涉方式 Twyman-Green(泰曼-格林)
测定光束径 ø6 mm
可测定光束径:ø2~6 mm
测定可能尺寸

2 mm~10 mm见方左右(棱镜、反射镜等)
80 mm见方、厚1 mm~5 mm、反射角45 °(平面镜切割前的基台)
* 使用角度调整工具等时

反射平面镜精度 λ/30(有效光束径ø6 mm以内)
反射平面旋转范围 50°~180°(可测定的反射角:0°及25°以上)
反射镜运行范围 ±2°
偏光规格 圆・直线切换
倍率 1×、3×(数码倍率切换)
焦点
解析方式 条纹扫描方式
装置重量 机身:约26 kg(电脑除外)
装置尺寸 机身:330(W)×465(D)×370(H) mm
电源规格 100~240 V AC
50~60 Hz、100 VA
使用环境 水平且无振动的地方(地面振动±0.8 m/s²以下)
温度:23±3 °C
湿度:60%以下、无结露

* 本装置不保证溯源体系中的绝对精度

透过波面测定干涉仪 KIF-PU:软件

特长

1.解析结果显示功能

・P-V, RMS, Pwr
・赛德尔像差(倾斜、焦点、AS、彗差、球面像差)
・Zernike系数(3、4、9、16、25、36项)
・3维鸟瞰图、2维彩图
・横切面侧面像(X、Y方向、PV、RMS)
・合格判断结果

2.文件输入输出功能

・工作参数的保存和读取
・条纹数据的保存和读取
・影面数据的保存和读取
・画面版面的保存和读取
・主窗口打印

3.影面功能

・影面设定(四角形、圆形、多角形、自动影面)
・自动影面设定

4.工作参数设定功能

・产品名、单元名、注释
・波长(405/658)
・修整次数(3/4/9/16/25/36)
・像差清除(像差指定/Zernike系数指定)
・显示单位(λ、μm、nm、条纹)
・对Zernike系数的offset设定
・规格值(指定各像差以及用户定义式)

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