Evident LogoOlympus Logo
Ресурсы
Application Notes
Назад к ресурсам

Оценка формы фотошаблонов линзовых решеток, образованных с применением полутоновой маски/Бесконтактное 3D измерение профиля поверхности с помощью лазерного микроскопа


1. Область применения

Полутоновые маски используются в технологии изготовления составных компонентов для микрообъективов сложной формы или других изделий, состоящих из высококачественных 3D микроструктур. С помощью полутоновых масок наносится 3D рисунок; фоторезистивное покрытие облучается мультиградиентным лазером для создания 3D рисунка (Рис. 1). Измерение 3D формы фоторезиста после облучения чрезвычайно важно для контроля качества. Поскольку 3D рисунок очень хрупкий, для сохранения его целостности необходимо выполнять бесконтактное измерение.

2. Решение Olympus

3D лазерный сканирующий микроскоп Olympus LEXT позволяет выполнять бесконтактную объемную визуализацию выпуклой или вогнутой формы полутоновой маски с высокими разрешением и контрастом. Благодаря линзам объектива с высокой числовой апертурой и оптической системе, сконструированной для обеспечения максимальной производительности лазера с длиной волны 405 нм, микроскоп LEXT способен точно захватывать профиль искривленных скосов, позволяя получать воспроизводимые и достоверные данные 3D профилей (Рис. 1). В дополнение к измерению формы образцов пользователи также могут четко визуализировать мельчайшие несовершенства с помощью функции дифференциально-интерференционного контраста.

Вогнутый рисунок
Gray scale mask 凹 ob50×
Объектив: 50x 50X, увеличение 1x
Gray scale mask 凹 ob50× 3D
Объектив: 50x 50X, увеличение 1x
Gray scale mask 凹 ob100× 3D
Объектив: 100x 100X, увеличение 1x
Выпуклый рисунок
Gray scale mask 凸 ob50×
Объектив: 50x 50X, увеличение 1x
Gray scale mask 凸 ob50× 3D
Объектив: 50x 50X, увеличение 1x
Gray scale mask 凸 ob100× 3D
Объектив: 100x 100X, увеличение 1x

Рис. 1: Визуализация вогнутых и выпуклых рисунков с помощью микроскопа LEXT

Рис. 2: Процесс сборки объектива с применением полутоновой маски

Этап 1

  1. Фоторезистивное покрытие
    Фоторезистивное покрытие
    Нанесение фоторезиста на стекло.
     
  2. Отрисовка (лазерным излучением)
    Отрисовка (лазерным излучением)
    Облучение слоя фоторезиста пучком мультиградиентного лазера для получения позитивного фоторезиста.
    Облучаемая область разрушается и размягчается.
     
  3. Замачивание в проявителе
    Замачивание в проявителе
    Проявление фоторезиста и снятие ненужных областей. Оценка 3D профиля на этом этапе является ключевым шагом контроля качества.

Этап 2

  1. Гальванизация
    Гальванизация
    Нанесение гальванического покрытия на фоторезист.
     
  2. Травление
    Травление
    Растворение фоторезиста методом травления и переворачивание гальванического покрытия для завершения обработки оригинала (металлоформы).

Этап 3

  1. Фиксация пленки на металлоформе методом термокомпрессии.
    Фиксация пленки на металлоформе методом термокомпрессии
     
  2. Отштамповка
    Отштамповка
    Снятие пленки с металлоформы и ее переворачивание.
     
  3. Формовка полимера
    Формовка полимера
    Заливка полимера в пленочную форму.
     
  4. Завершающий этап
    Завершающий этап
    Отвердевание полимера и его извлечение из пленочной формы для завершения изготовления линзы.
Olympus IMS

Продукты, используемые для этой цели

The LEXT™ OLS5100 laser scanning microscope combines exceptional accuracy and optical performance with smart tools that make the system easy to use. The tasks of precisely measuring shape and surface roughness at the submicron level are fast and efficient, simplifying your workflow and delivering high-quality data you can trust.

К сожалению, эта страница недоступна в вашей стране.
Let us know what you're looking for by filling out the form below.
К сожалению, эта страница недоступна в вашей стране.